Leitung in Halbleitern
In Halbleitern erfolgt ein Leitungsvorgang, weil durch Dotieren frei bewegliche (wanderungsfähige) Elektronen und Löcher vorhanden sind. Beim Anlegen einer Spannung und damit beim Vorhandensein eines elektrischen Feldes bewegen sich die Elektronen und die Löcher gerichtet.
Entsprechend dem allgemeinen Leitungsmodell müssen für einen elektrischen Leitungsvorgang zwei Voraussetzungen erfüllt sein:
1. Vorhandensein frei beweglicher (wanderungsfähiger) Ladungsträger: In reinen Halbleitern stehen nur sehr wenige Elektronen und Löcher (Defektelektronen) für den Leitungsvorgang zur Verfügung. Durch Dotieren kann ihre Anzahl gezielt vergrößert werden.
2. Existenz eines elektrischen Feldes: Das wird durch Anlegen einer elektrischen Spannung erreicht.
Der Verlauf des elektrischen Leitungsvorganges in Halbleitern ist dadurch gekennzeichnet, dass
- sich Elektronen und Löcher (Defektelektronen) gerichtet bewegen,
- die gerichtete Bewegung der Elektronen bzw. der Löcher durch die Atome behindert wird,
- elektrische Energie in thermische Energie umgewandelt wird.
Auftreten und Anwendung von Leitungsvorgängen in Halbleitern
Leitungsvorgänge in Halbleitern werden vor allem bei elektronischen Bauelementen angewendet. Dazu gehören Thermistoren ebenso wie Halbleiterdioden, Transistoren oder integrierte Schaltkreise als komplexe Bauelemente.
Genauere Informationen zu den einzelnen Bauelementen sind unter den betreffenden Stichwörtern zu finden.
